昨日盤后，國(guó)新辦就中國(guó)科學(xué)院“率先行動(dòng)”計(jì)劃第一階段實(shí)施進(jìn)展情況舉行發(fā)布會(huì)。

發(fā)布會(huì)上，中科院院長(zhǎng)白春禮表示：面臨美國(guó)對(duì)中國(guó)高科(600730,股吧)技產(chǎn)業(yè)的打壓，我們希望在這方面能做一些工作。我們把美國(guó)“卡脖子”的清單變成我們科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機(jī)，還有一些關(guān)鍵的核心技術(shù)、關(guān)鍵原材料等，我們爭(zhēng)取將來(lái)在第二期，聚焦在國(guó)家最關(guān)注的重大的領(lǐng)域，集中我們?nèi)旱牧α縼?lái)做。

目前高精度的光刻機(jī)只有荷蘭、美國(guó)、日本、德國(guó)等少數(shù)企業(yè)掌握，其中荷蘭的阿斯麥公司(ASML)更是其中的龍頭老大，并已經(jīng)占據(jù)了高達(dá)80%的市場(chǎng)份額，壟斷高端光刻機(jī)市場(chǎng)。

據(jù)悉，目前最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)精度為7納米，售價(jià)曾高達(dá)1億美元一臺(tái)，且全球僅僅ASML能夠生產(chǎn)。而英特爾、三星和臺(tái)積電都是ASML的股東，享有光刻機(jī)的優(yōu)先供貨權(quán)。

與此同時(shí)，中國(guó)自主生產(chǎn)的光刻機(jī)精度約為90納米級(jí)別，與世界最先進(jìn)水平大約有15年的技術(shù)差距。

芯片制造是我國(guó)最大的短板，芯片制造始終繞不開(kāi)光刻機(jī)，直接制約著中國(guó)高科技企業(yè)的持續(xù)健康發(fā)展。

其實(shí)這些年來(lái)，國(guó)內(nèi)早就有設(shè)備廠商，以及研究機(jī)構(gòu)在對(duì)光刻機(jī)進(jìn)行研發(fā)。如上海微電子、中電科四十五所、中電科四十八所等。

目前我國(guó)的北斗三號(hào)芯片目前已經(jīng)成功突破了22納米的限制，它所配套的上海微電子技術(shù)也取得了重大突破，成功研制出了22nm的光刻機(jī)。

方正證券(601901,股吧)陳杭認(rèn)為光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)替代將迎來(lái)新的曙光，尤其是IC前道制造領(lǐng)域，將初步打破國(guó)外巨頭完全壟斷的局面，實(shí)現(xiàn)從0到1的突破。

建議關(guān)注以舉國(guó)之力助力國(guó)產(chǎn)替代的光刻產(chǎn)業(yè)鏈，一是光刻機(jī)核心組件：負(fù)責(zé)整體集成的上海微電子、負(fù)責(zé)光源系統(tǒng)的科益虹源，負(fù)責(zé)物鏡系統(tǒng)的國(guó)望光學(xué)，負(fù)責(zé)曝光光學(xué)系統(tǒng)的國(guó)科精密，負(fù)責(zé)雙工作臺(tái)的華卓精科，負(fù)責(zé)浸沒(méi)系統(tǒng)的啟爾機(jī)電;二是光刻配套設(shè)施：包括光刻膠，光刻氣體，光掩模版，光刻機(jī)缺陷檢測(cè)設(shè)備，涂膠顯影設(shè)備等。

財(cái)聯(lián)社整理光刻機(jī)相關(guān)概念股包括萬(wàn)業(yè)企業(yè)(600641,股吧)、張江高科(600895,股吧)、奧普光電(002338,股吧)、晶方科技(603005,股吧)、上海新陽(yáng)(300236,股吧)等。